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專題公告

半導(dǎo)體工藝中的圖形轉(zhuǎn)移過程
從設(shè)計(jì)文件到電路實(shí)現(xiàn)的工藝框架
這是一個復(fù)雜的過程,要經(jīng)過工藝定義的各個相關(guān)部門的密切合作,在光刻定義的圖形基礎(chǔ)上,由Dry etch,wetprocess,diffusion,implant,thin film 等部門協(xié)同工作而完成實(shí)體電路的搭建.
簡單的電路實(shí)現(xiàn)要在Fab里流片十幾天,經(jīng)過十幾個光刻步驟,復(fù)雜的可能要幾十個步驟,所謂的cycle time(CT)則可能需要超過一個月甚至更多時(shí)間.

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展開描述
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