ADS仿真入門(mén)1 -- 結(jié)合史密斯圓圖對(duì)特性阻抗的tuning

作為一名硬件工程師,如果板子打出來(lái)高速差分特性阻抗不滿(mǎn)足要求怎么辦?在不該P(yáng)CB的情況下如何做臨時(shí)tuning?


Smith圓圖

首先,我們需要將幾個(gè)公式了然于心:

阻抗基礎(chǔ)

平行板電容量

C=εoA/h

A表示平行板面積,h表示平板間距。

圓形導(dǎo)體局部自感

L=5d{ln(2d/r)-3/4}

d為長(zhǎng)度,r為半徑

A表示平行板面積,h表示平板間距。

頻域二階阻抗公式

Z(w)=R+i(wL-1/wC),w=2πf 頻域二階

w指角頻率,i為相位復(fù)數(shù),f為頻率。

微帶線(xiàn)(microstrip)特性阻抗

Z={87/[sqrt(Er+1.41)]}*ln[5.98H/(0.8W+T)]

W為線(xiàn)寬,T為走線(xiàn)的銅皮厚度,H為走線(xiàn)到參考平面的距離,Er是PCB板材質(zhì)的介電常數(shù)(dielectric constant)

帶狀線(xiàn)(stripline)特性阻抗

Z=[60/sqrt(Er)]*ln{4H/[0.67π(0.8W+T)]}

即與介電常數(shù)、銅箔厚度成反比;與介質(zhì)厚度(與參考層的距離)成正比

綜合上面3個(gè)公式,可領(lǐng)悟出,銅箔越厚,L越小,Z(w)=R+i(wL-1/wC),故特性阻抗變大;與參考層距離越大,C越大,Z(w)=R+i(wL-1/wC),故特性阻抗越小。

再實(shí)際一點(diǎn),就是信號(hào)遇到容性阻抗時(shí),特性阻抗會(huì)降低;遇到感性阻抗時(shí),特性阻抗會(huì)升高。

反射理論

S11=Vr/Vi=(Z2-Z1 )/(Z2+Z1)

S12=Vt/Vi=2*Z2/(Z2+Z1)? ? ? ? ? (2)

Vi為反射前端信號(hào)電壓,Vr為反射電壓,Vt為反射后端信號(hào)電壓,Z1為反射前端阻抗,Z2為反射后端阻抗,Vo為驅(qū)動(dòng)端電壓。Vi為傳輸線(xiàn)電壓。

實(shí)際一點(diǎn),就是如果后端阻抗大于輸入阻抗,就是形成正反射,信號(hào)電壓升高,即過(guò)沖;就是如果后端阻抗小于輸入阻抗,就是形成負(fù)反射,信號(hào)電壓降低,即下沖。我們經(jīng)常在發(fā)送端加22~33Ω匹配串阻,就是因?yàn)镃MOS輸出阻抗很低,只有20~40Ω,需要進(jìn)行阻抗匹配。

說(shuō)了那么多,OK,開(kāi)始干活:

ADS建一個(gè)簡(jiǎn)單的前仿真線(xiàn)路

ADS S parameter schematic

主要是因?yàn)榕d趣玩玩,所以在線(xiàn)路上胡亂串聯(lián)并聯(lián)了LC,看看能不能調(diào),正常情況下高速信號(hào)上肯定只有AC coup,所以結(jié)果會(huì)不怎么好看,損耗太嚴(yán)重。

掃描頻率設(shè)置為1GHz~5GHz,設(shè)置差分S參數(shù)公式,提取差分回?fù)pSDD11,差分插損SDD12,TDR阻抗,史密斯圓圖結(jié)果。

從Smith圓圖上增加2個(gè)mark點(diǎn),可以看出在1GHz時(shí),阻抗約為超出100較多;在5GHz,阻抗低于100較多,且實(shí)部阻抗一直不在Zo圓圈附近,在實(shí)部和虛部高低之間一直來(lái)回震蕩。

打開(kāi)ADS tuning,調(diào)節(jié)串聯(lián)LC和并聯(lián)C的值,發(fā)現(xiàn)串聯(lián)C的值影響幾乎忽略不計(jì),故此處不寫(xiě),串阻R也是,發(fā)現(xiàn)對(duì)信號(hào)的損耗太大。

串聯(lián)L的調(diào)試

增大串聯(lián)L從0.05nH到2.04nH,從史密斯圓圖上發(fā)現(xiàn)1G~5GHz阻抗幾乎在同一個(gè)實(shí)部圓圈上,由于阻抗匹配較好,所以SDD11回?fù)p幾乎保持不變,TDR曲線(xiàn)幾乎沒(méi)變,但插損損失變得更加嚴(yán)重。

增大L到2.04nH

繼續(xù)增大L到5.025nH,從史密斯圓圖上看,較低頻的1GHz阻抗從0.05nH時(shí)的實(shí)部1.457降到0.503,阻抗變小了很多;5GHz反而相反。插損更加嚴(yán)重,接收端能接受到的功率在2GHz下幾乎無(wú)法滿(mǎn)足了。

L繼續(xù)增大到5nH

總結(jié)得出,串聯(lián)L對(duì)特性阻抗的調(diào)試沒(méi)有線(xiàn)性規(guī)律,還是取決于板子上信號(hào)頻率,且L越大,插損越大,不宜采取此方法。

并聯(lián)C的調(diào)試

將并聯(lián)電容從0.1nF減小為0.001nF,發(fā)現(xiàn)1GHz阻抗實(shí)部從1.45降為1.234,5GHz實(shí)部從0.68減為0.676,史密斯圓圈變小,越來(lái)越靠近Zo,所以回?fù)p插損整體都變小。

減小并聯(lián)C到0.001nF

將并聯(lián)電容從0.001nF增到為10nF,發(fā)現(xiàn)1GHz阻抗實(shí)部從1.234升為1.442,5GHz實(shí)部從0.676降為0.606,史密斯圓圈變大,所以回?fù)p插損整體都變大,由于5GHz阻抗變化非線(xiàn)性,故并聯(lián)電容無(wú)法線(xiàn)性調(diào)節(jié)阻抗。

并聯(lián)C增大到10nF

將并聯(lián)電容從10nF增到為100nF,發(fā)現(xiàn)1GHz阻抗實(shí)部虛部均幾乎沒(méi)有變化,不僅如此其他參數(shù)也沒(méi)有變化,故可見(jiàn)并聯(lián)C并不能一直影響特性阻抗,它有一個(gè)范圍。

將并聯(lián)C增大到100nF


綜上,搞了半天,高速差分阻抗調(diào)試必須搭配頻率,沒(méi)有一定的規(guī)律可尋,而結(jié)合最開(kāi)始說(shuō)的公式,線(xiàn)寬線(xiàn)距過(guò)孔參考層都會(huì)影響到阻抗,所以還是安心在gerber前把阻抗控制好,注意review stackup和layout,否則萬(wàn)劫不復(fù)準(zhǔn)備走人啊~

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