隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，干法刻蝕已經(jīng)成為工藝步驟中不可或缺的重要步驟，由于干法刻蝕對于薄膜材料具有良好的各項異性和選擇比，使得干法刻蝕在納米級和微米級，尤其是小線寬的制程中的應(yīng)...
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IP屬地：天津
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2020-03-07小劉科研筆記之刻蝕的基本要求和基本過程
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2020-03-05小劉科研筆記之電子束光刻中的臨近效應(yīng)以及其修正的方法
?近年來，電子束光刻的眾多優(yōu)勢凸顯出來，通過電子束直寫的形式將圖形直接轉(zhuǎn)移到晶圓上，不需掩膜版，直寫線寬最小可達10 nm，然而這種方法也存在一些不足，像曝光時間長，價格昂貴...
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2020-03-03小劉科研筆記之SEM-EDS聯(lián)用技術(shù)在表征科學(xué)中的應(yīng)用
表面分析技術(shù)是一種統(tǒng)稱，指的是利用電子、光子、離子等與材料表面進行相互作用，分辨范圍從微米級到納米級，測量從表面散射或發(fā)射出來的各種離子、電子和光子的質(zhì)譜、能譜、光譜等，對材...
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2020-02-29小劉科研筆記之簡析在實際應(yīng)用中，影響ICP刻蝕效果的因素
?在感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的工藝中，影響刻蝕形貌的因素很多，如：工藝參數(shù)里有源功率、RF功率、流量比、工作壓力、He壓、內(nèi)壁溫度。另外，chiller到溫時間、掩模形貌，甚至反...
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2020-02-28小劉科研筆記之以2 um線寬為例，淺析紫外光刻之多種曝光模式
本篇筆記來源于日常實驗工作中的某一個案例。 一、實驗設(shè)備介紹 SUSS紫外光刻機是設(shè)計用于實驗室研發(fā)，小批量生產(chǎn)的高分辨率光刻系統(tǒng)。SUSS紫外光刻機具有以下幾個特點： 1、...
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2020-02-27小劉科研筆記之影響超聲清洗效果因素
超聲清洗是大功率超聲領(lǐng)域中最為普遍，應(yīng)用最為廣泛的清洗方法和應(yīng)用技術(shù)。超聲清洗不僅清洗效率高、效果好，而且可以對復(fù)雜零件、半導(dǎo)體、電子器件進行清洗，對于污染物的清洗范圍也非常...
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2020-02-26小劉科研筆記之掃描電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)組成、工作原理及其應(yīng)用
掃描電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope，簡稱SEM），中文簡稱掃描電鏡，是介于透射電鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段。在材料領(lǐng)域中，...
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2020-02-25小劉科研筆記之電子束光刻的影響因素——前散射
?電子束光刻有著較高的靈活性和分辨率，但在實際應(yīng)用中，設(shè)計的圖形與最終曝光得到的圖形都會存在一定的偏差。造成這一現(xiàn)象的原因有很多，除了工藝上的影響之外，一個重要的因素是電子束...
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2020-02-24小劉科研筆記之幾種常見的研磨拋光液的優(yōu)劣勢分析
研磨拋光是半導(dǎo)體加工過程中的一項重要工藝，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體表面進行加工， 研磨液、拋光液是影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的重要因素。 一、簡析幾種常見的研磨液的優(yōu)劣勢 研磨是半導(dǎo)體加工過...
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2020-02-18小劉科研筆記之氬離子精密拋光（可用于電鏡制樣）
氬離子精密拋光刻蝕鍍膜儀是一款集拋光與鍍膜于一身的桌面型制樣設(shè)備。對于同一個樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。通過利用兩個寬束氬離子源對樣品表面進行拋光，去除損傷層，從...
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2020-02-13小劉科研筆記之光刻技術(shù)中的襯底粘附性問題
在光刻工藝中遇到襯底粘附性差的情況下，是如何通過調(diào)整試驗方法解決的。 ?Question：此次的工藝是需要在某款負膠上進行紫外光刻，光刻膠參數(shù)為：厚2.6μm，線條寬度1.5...
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2020-02-12小劉科研筆記之激光共聚焦原子力顯微鏡形貌、成分和結(jié)構(gòu)的表征是材料的生長、鑒別、加工、研究和應(yīng)用等過程中很重要的一個步驟。本篇筆記將以華慧高芯網(wǎng)激光共聚焦原子力顯微鏡為例描述該設(shè)備在材料表征的功能與應(yīng)用。 一、激...
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2020-02-12小劉科研筆記之光刻工藝的實操
?光刻（lithography）是芯片制造中的一項最為關(guān)鍵的技術(shù)，也是微納器件制備過程中必不可少的一道工藝。一般我們將光刻工藝分為8個步驟：氣相成底膜、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、對準(zhǔn)和...
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2020-02-11-2小劉科研筆記之RIE反應(yīng)離子刻蝕機
隨著大規(guī)模集成電路制造朝著更高集成度、更小關(guān)鍵尺寸以及更大晶圓半徑的方向發(fā)展，對刻蝕工藝的精度要求越來越高，所以濕法刻蝕的圖形保真性不理想、刻蝕線寬難以控制、表面粗糙等不適用...
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2020-02-11-1小劉科研筆記之實例：掃描電鏡下的蝴蝶世界
參考文獻： 1. 邱兆美.蝴蝶鱗片微觀結(jié)構(gòu)與模型分析[J].農(nóng)業(yè)機械學(xué)報，2009； 2.關(guān)會英.典型蝴蝶鱗片結(jié)構(gòu)色形成機理及其微觀結(jié)構(gòu)研究[D].吉林大學(xué)，2007 一、前...
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2020-02-10-2小劉科研筆記之PECVD等離子體增強化學(xué)氣相沉積
一、什么是PECVD PECVD是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使...
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2020-02-10-1小劉科研筆記之化學(xué)試劑的常理知識
化學(xué)試劑（chemical reagent）是進行化學(xué)研究、成分分析的相對標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，是科技進步的重要條件，廣泛用于物質(zhì)的合成、分離、定性和定量分析，可以說在日常工作中，工廠、...
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2020-02-08-2小劉科研筆記之FIB-SEM雙束系統(tǒng)在材料研究中的應(yīng)用
聚焦離子束掃描電鏡雙束系統(tǒng)（FIB-SEM）是在SEM的基礎(chǔ)上增加了聚焦離子束鏡筒的雙束系統(tǒng)，同時具備微納加工和成像的功能，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和半導(dǎo)體芯片研發(fā)等多個領(lǐng)域。本文...
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2020-02-08-1小劉科研筆記之半導(dǎo)體材料的研磨拋光
昨日因為工作內(nèi)容太多，加上一直學(xué)習(xí)，就沒能更新，實屬抱歉！? 磨削和研磨等磨料處理是生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片的必要方式，然而研磨會導(dǎo)致芯片表面的完整性變差。因此，拋光的一致性、均勻性和...
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2020-02-06-2小劉科研筆記之關(guān)于超凈服不得不說的幾件事
芯片生產(chǎn)對環(huán)境的要求十分苛刻，其中潔凈室為重中之重。為了保證作業(yè)空間的潔凈度及防靜電要求，潔凈室內(nèi)人員穿戴也有其特殊的規(guī)定，其中包括無塵服、無塵靴、防靜電手環(huán)、網(wǎng)帽、口罩、手...